Детальная информация

Переход российских предприятий на отечественную материальную базу является актуальной стратегической задачей нашего государства. В рамках данной работы были отработаны технологические режимы для процесса фотолитографии для производства акустических фильтров и линий задержки. Для достижения данной цели были выполнены поставленные задачи – проанализирована литература, посвященная процессу литографии; осуществлен подбор материалов для отработки параметров литографии на примере конкретных изделий; а также было оценено качество и воспроизводимость результатов литографии. Особое внимание уделялось вопросам воспроизводимости результатов и стабильности процесса в условиях серийного производства. В процессе адаптирования технологических режимов стало понятно, что процесс фотолитографии сопровождается набором параметров, зависящих друг от друга. В ходе работы удалось подобрать режимы для процесса фотолитографии, использующего фоторезисты марок ФП-9120 и ФП-3511, а также проявитель УПФ-1Б. Полученные результаты имеют практическую значимость для предприятий отрасли, в частности для АО «НИТИ «Авангард». Разработанные технологические режимы позволяют обеспечить переход на отечественные материалы. Дальнейшие исследования будут нацелены на автоматизацию процесса литографии с использованием отечественной материальной базы, а также на расширение номенклатуры применяемых российских материалов.

The transition of Russian enterprises to a domestic material base is an urgent strategic task of our state. As part of this work, the technological modes for the photolithography process for the production of acoustic filters and delay lines were worked out. To achieve this goal, the following tasks were completed: the literature on the lithography process was analyzed; materials were selected for testing lithography parameters using the example of specific products; and the quality and reproducibility of lithography results were evaluated. Special attention was paid to the issues of reproducibility of the results and stability of the process in the conditions of mass production. In the process of adapting technological modes, it became clear that the lithography process is accompanied by a huge set of parameters that depend on each other. During the work, it was possible to select the modes for the photolithography process using FP-9120 and FP-3511 resistors, as well as the UPF-1B developer. The results obtained are of practical importance for the enterprises of the industry. The developed technological modes make it possible to ensure the transition to domestic materials. Further research will be aimed at automating the lithography process using the domestic material base, as well as expanding the range of Russian materials used.