Демарева, Дарья Александровна. Отработка параметров процесса фотолитографии в условиях серийного производства изделий микросистемной техники: выпускная квалификационная работа бакалавра: направление 28.03.01 «Нанотехнологии и микросистемная техника» ; образовательная программа 28.03.01_01 «Технологии наноматериалов и изделий микросистемной техники» = Optimization of photolithography parameters for mass production of microsystem technology devices / Д. А. Демарева; Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Институт машиностроения, материалов и транспорта; научный руководитель Е. В. Афанасьева. — Санкт-Петербург, 2025. — 1 файл (1,1 Мб). — Загл. с титул. экрана. — Доступ по паролю из сети Интернет (чтение). — Adobe Acrobat Reader 7.0. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2025/vr/vr25-2935.pdf>. — DOI 10.18720/SPBPU/3/2025/vr/vr25-2935. — Текст: электронный
| Период | Чтение | Печать | Копирование | Открытие | Итого |
|---|---|---|---|---|---|
| Вчера | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Последние 30 дней | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Последние 365 дней | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| За все время | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |