Details

Работа посвящена изучению атомно-слоевого осаждения покрытий оксида вольфрама в системе реагентов W(CO)6-активированный плазмой кислород при разных темературах. В ходе проведения серий экспериментов была получена зависимость скорости роста покрытия, числа циклов осаждения. В ходе работы была получена пленка триоксида вольфрама на вискерах ITO методом плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения. Также в данной работе были исследованы электрохромные свойства покрытий триоксида вольфрама, полученных в разных условиях методом АСО. Для определения электрохромных свойств применялись методы циклической вольтамперометрии, хроноамперометрии, а также спектральные методы.

The work is devoted to the study of atomic layer deposition of tungsten trioxide coatings in the reagent system W(CO)6-plasma-activated oxygen at different temperatures. During the series of experiments, the dependence of the coating growth rate and the number of deposition cycles was obtained. In the course of the work, a tungsten trioxide film was obtained on ITO whiskers by plasma-enhanced atomic layer deposition. Also in this work, the electrochromic properties of tungsten trioxide coatings obtained under different conditions by the ALD method were investigated. To determine the electrochromic properties, cyclic voltammetry, chronoamperometry, and spectral methods were used.