Details

Данная работа посвящена разработке технологии и исследованию тонкоплёночных металлокерамических покрытий, полученных методом магнетронного распыления на установке «SemiTEq STE MS900S». Основной целью являлось получение плёнок кермета с последующим исследованием их электрофизических параметров, толщины и состава. Работа проведена на базе предприятия АО НИТИ «Авангард», где была выполнена вся практическая часть работы. Исследование образцов при помощи растрового электронного микроскопа проводилось в Политехническом университете Петра Великого. В результате было установлено, что распределение толщины плёнки, а также её сопротивления по площади подложки неравномерно, что связано с неоднородностью состава мишени по толщине. На основе анализа результатов проделанной работы был сделан вывод о низкой воспроизводимости процесса, больших экономических затратах в процессе получения плёнок, удовлетворяющих заданным требованиям. Необходим более глубокий анализ недостатков метода получения плёнок кермета магнетронным распылением с целью их устранения и доработки технологии для полноценного внедрения на предприятии.

This work is devoted to the development of technology and study of thinfilm metal-ceramic coatings obtained by magnetron sputtering on the "SemiTEq STE MS900S" installation. The main goal was to obtain cermet films with subsequent study of their electrophysical parameters, thickness and composition. The work was carried out on the basis of the enterprise JSC NITI "Avangard", where the entire practical part of the work was carried out. The study of samples using a scanning electron microscope was carried out at the Peter the Great Polytechnic University. As a result, it was found that the distribution of the film thickness, as well as its resistance over the substrate area, is uneven, which is due to the heterogeneity of the target composition by thickness. Based on the analysis of the results of the work done, a conclusion was made about the low reproducibility of the process, high economic costs in the process of obtaining films that meet the specified requirements. A more in-depth analysis of the shortcomings of the method for obtaining cermet films by magnetron sputtering is necessary in order to eliminate them and refine the technology for full implementation at the enterprise.