Детальная информация

Работа посвящена изучению кинетики атомно-слоевого осаждения покрытий оксида вольфрама в системах реагентов WH2Cp2-O3 и W(CO)6-активированный плазмой кислород. В ходе проведения серий экспериментов были получены зависимости скорости роста покрытия от температуры, времени напуска первого реагента и числа циклов осаждения. Изучен химический состав и ряд физических и прикладных свойств покрытий оксида вольфрама в зависимости от условий их получения.

The work is devoted to the study of the kinetics of atomic layer deposition of tungsten oxide coatings in WH2Cp2-O3 and W(CO)6-activated plasma oxygen reagent systems. During a series of experiments, the dependence of the coating growth rate on temperature, the time of the first reagent introduction, and the number of deposition cycles was obtained. The chemical composition and a number of physical and applied properties of tungsten oxide coatings were studied depending on the conditions of their production.