Детальная информация

Название: Sputtering materials for VLSI and thin film devices
Авторы: Sarkar Jaydeep
Выходные сведения: Amsterdam [etc.]: Elsevier Inc., William Andrew, 2011
Коллекция: Электронные книги зарубежных издательств; Общая коллекция
Тематика: Микроэлектроника; Пленки тонкие — Получение; Дисплеи
УДК: 539.23; 004.353; 621.38
Тип документа: Другой
Тип файла: Другой
Язык: Английский
Права доступа: Доступ из локальной сети ФБ СПбПУ (чтение, печать, копирование)
Ключ записи: RU\SPSTU\edoc\52719

Разрешенные действия: Посмотреть

Аннотация

An important resource for students, engineers and researchers working in the area of thin film deposition using physical vapor deposition (e.g. sputtering) for semiconductor, liquid crystal displays, high density recording media and photovoltaic device (e.g. thin film solar cell) manufacturing. This book also reviews microelectronics industry topics such as history of inventions and technology trends, recent developments in sputtering technologies, manufacturing steps that require sputtering of thin films, the properties of thin films and the role of sputtering target performance on overall productivity of various processes. Two unique chapters of this book deal with productivity and troubleshooting issues.

Статистика использования

stat Количество обращений: 11
За последние 30 дней: 0
Подробная статистика