Details
| Title | Сопротивляемость центробежной нагрузке тонкой оболочки в виде циклической поверхности с эллиптической образующей // Прикладная математика и механика (ПММ) = Journal of applied mathematics and mechanics: периодический журнал. – 2026. – № 2. — С. 272-295 |
|---|---|
| Creators | Осадчий Н. В. ; Шепель В. Т. |
| Imprint | 2026 |
| Collection | Общая коллекция |
| Subjects | Техника ; Сопротивление материалов ; тонкие оболочки ; циклические поверхности ; эллиптические образующие ; центробежные нагрузки ; сопротивляемость центробежным нагрузкам ; центробежные силы ; численные расчеты ; потенциальная энергия деформации |
| UDC | 539.3/.6 |
| LBC | 30.121 |
| Document type | Article, report |
| Language | Russian |
| DOI | 10.7868/S3034575826020072 |
| Rights | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Additionally | New arrival |
| Record key | RU\SPSTU\edoc\79906 |
| Record create date | 9/14/2026 |
Исследовано влияние способа формообразования циклической поверхности с эллиптической образующей на ее сопротивление центробежным силам. Предложен способ генерации направляющей линии, на основе которой было сформировано пять видов циклических поверхностей, отличающихся ориентацией плоскости, в которой расположена эллиптическая образующая, относительно касательной к направляющей линии. На основе численного расчета массово-инерционных характеристик, потенциальной энергии деформации, а также мембранных и изгибных напряжений выбран способ, позволяющий сформировать циклическую поверхность с наименьшим уровнем напряжений. Показано, что с уменьшением интенсивности разворота эллиптической образующей вокруг касательной к направляющей линии нормальная циклическая поверхность становится более "гладкой", а уровень изгибных напряжений в ней уменьшается.
