Details

Title: Поверхностная функционализация квазидвумерного MoS[2] в азотной и кислородной плазме // Физика и химия обработки материалов: научно-технический журнал. – 2023. – С. 18-28
Creators: Мележенко Д. Е.; Лопаев Д. В.; Манкелевич Ю. А.; Хлебников С. А.; Соловых А. А.; Новиков Л. С.; Воронина Е. Н.
Imprint: 2023
Collection: Общая коллекция
Subjects: Физика; Электронные и ионные явления. Физика плазмы; кислородная плазма; азотная плазма; квазидвумерные пленки; сульфид молибдена; дисульфид молибдена; фотолюминесцентные материалы; поверхностная функционализация; oxygen plasma; nitrogen plasma; quasi-two-dimensional films; molybdenum sulfide; molybdenum disulfide; photoluminescent materials; surface functionalization
UDC: 533.9
LBC: 22.333
Document type: Article, report
File type: Other
Language: Russian
DOI: 10.30791/0015-3214-2023-5-18-28
Rights: Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Record key: RU\SPSTU\edoc\72745

Allowed Actions: View

Annotation

Экспериментально и теоретически исследовано воздействие азотной и кислородной плазмы на квазидвумерные пленки MoS[2] с целью выявления основных механизмов их поверхностной функционализации и её влияния на структуру и свойства пленок. Диагностику образцов до и после обработки радикалами и ионами выполняли ex situ спектроскопией комбинационного рассеяния света, спектроскопической эллипсометрией, рентгеновской фотоэлектронной спектроскопией и др. Показано, что воздействие азотной и кислородной плазмы на ультратонкие пленки MoS[2] приводит к модификации приповерхностных слоев образцов за счет удаления серы и встраивания в образовавшиеся вакансии налетающих атомов. Моделирование методом теории функционала плотности выявило основные механизмы поверхностной функционализации монослоев MoS[2] и дало объяснение полученным экспериментальным данным.

The paper deals with the experimental and theoretical study of the interaction of quasi-two-dimensional MoS[2] films with nitrogen and oxygen plasmas in order to reveal the main mechanisms of their surface functionalization and to analyze its effects on the structure and properties of the films. Diagnostics of samples before and after treatment with radicals and ions was performed ex situ by Raman spectroscopy, spectroscopic ellipsometry, atomic force microscopy, energy dispersive X-ray spectroscopy, and X-ray photoelectron spectroscopy. The results of the experimental study showed that nitrogen and oxygen plasma treatment of ultrathin MoS[2] films leads to the modification of the near-surface layers of the samples due to the removal of sulfur and the incorporation of incident atoms into forming vacancies. Nitrogen and oxygen ions with even low (less than 30 eV) energy causes partial removal of upper layers of the films leading to their partial destruction, while remote plasma (mainly by thermal radicals) guarantees more ‘soft’ treatment of films. The obtained spectroscopic data also indicated different effects of radicals (thermal O and N atoms) on the MoS[2] surface. To analyze these effects, the computer modelling with density functional theory method was carried out. Its results enables to reveal the main mechanisms of the surface functionalization of MoS[2] monolayers and to explain the experimental data.

Usage statistics

stat Access count: 2
Last 30 days: 0
Detailed usage statistics