Румянцев, А. В. Сравнение процессов распыления кремния и диоксида кремния фокусированным ионным пучком = Comparison of silicon and silicon dioxide sputtering by a focused ion beam / А. В. Румянцев, Н. И. Боргардт. — 1 файл (554 Кб). — (Технологические процессы и маршруты). — DOI 10.24151/1561-5405-2024-29-1-30-41. — Текст: электронный // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2024. – Т. 29, № 1. — С. 30-41. — Загл. с титул. экрана. — Список литературы представлен на русском и английском языках. — Доступ по паролю из сети Интернет (чтение). — <URL:https://elibrary.ru/item.asp?id=61486462>.
| Period | Read | Copy | Open | Total | |||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Year 2024 | Quarter 3 | September | 0 | 0 | 0 | 9 | 9 |
| Quarter 4 | October | 0 | 0 | 0 | 1 | 1 | |
| November | 0 | 0 | 0 | 2 | 2 | ||
| Total | 0 | 0 | 0 | 12 | 12 | ||