Electronic Documents Search

Documents found: 4

1

Электронная структура ферроманганита висмута BiFe[0,5]Mn[0,5]O[3] // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2024. – Т. 29, № 1. — С. 19-29

Creators	Баглов А. В.; Хорошко Л. С.; Силибин М. В.; Карпинский Д. В.
Imprint	2024
Collection	Общая коллекция
Subjects	Химия; Химия твердого тела; Химическая связь и строение молекул; висмут; ферроманганит висмута; ферроманганиты; электронные структуры; мультиферроики; теория функционала плотности; заселенность атомных орбиталей; Bismuth; Bismuth ferromagnetic; ferromanganese; electronic structures; multiferroics; density functional theory; population of atomic orbitals
UDC	544.22; 544.1
LBC	24.52; 24.51
Document type	Article, report
File type	Other
Language	Russian
DOI	10.24151/1561-5405-2024-29-1-19-29
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://elibrary.ru/item.asp?id=61486461

Технология материалов микро-, опто- и наноэлектроники: учебное пособие: в 2 ч. Ч. 2. — 3-е изд.

Creators	Рощин В. М.; Силибин М. В.
Imprint	Москва: Лаборатория знаний, 2015
Collection	ЭБС "Айбукс.ру/ibooks.ru"; Общая коллекция
Subjects	Электроника
UDC	621.38(075.8)
Document type	Tutorial
File type	Other
Language	Russian
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://ibooks.ru/reading.php?short=1&productid=350194

Управление составом тонких пленок Mo-Si-N-O при реактивном магнетронном распылении // Известия высших учебных заведений. Электроника: научно-технический журнал. – 2023. – Т. 28, № 6. — С. 745-761

Creators	Громов Д. Г.; Гаврилов С. А.; Лебедев Е. А.; Силибин М. В.; Дубков С. В.; Аникин А. В.; Погалов А. И.; Дронова Д. А.; Бутманов Д. Д.; Ширяев М. Е.; Громов В. Д.; Рязанов Р. М.; Шарипов Р. А.; Беспалов В. А.
Imprint	2023
Collection	Общая коллекция
Subjects	Физика; Физика твердого тела. Кристаллография в целом; тонкие пленки; состав тонких пленок; управление составом пленок; магнетронное распыление; реактивное распыление; фазосдвигающие фотошаблоны (физика); нитридизация; thin films; composition of thin films; film composition control; magnetron sputtering; reactive sputtering; phase-shifting photomasks (physics); nitridization
UDC	539.2
LBC	22.37
Document type	Article, report
File type	Other
Language	Russian
DOI	10.24151/1561-5405-2023-28-6-745-761
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://www.elibrary.ru/item.asp?id=55172126

Моделирование дифракционных эффектов при использовании фазосдвигающих слоев в фотолитографии // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2024. – Т. 29, № 6. — С. 736-751

Creators	Лавров И. В.; Дронова Д. А.; Силибин М. В.; Аникин А. В.; Дубков С. В.; Лебедев Е. А.; Шарипов Р. А.; Вигдорович Е. Н.; Громов Д. Г.
Imprint	2024
Collection	Общая коллекция
Subjects	Физика; Геометрическая оптика. Оптические приборы; дифракционные эффекты; моделирование дифракционных эффектов; фазосдвигающие слои; фотолитография; фотошаблоны; фурье-оптика; контрастность; diffraction effects; modeling of diffraction effects; phase shifting layers; photolithography; photo templates; fourier optics; contrast ratio
UDC	535.31
LBC	22.342
Document type	Article, report
File type	Other
Language	Russian
DOI	10.24151/1561-5405-2024-29-6-736-751
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://www.elibrary.ru/item.asp?id=75220369

1