Electronic Documents Search

Documents found: 1

1

Исследование и разработка процесса глубокого анизотропного плазменного травления кремния со сниженной шероховатостью боковых стенок структур // Известия высших учебных заведений. Электроника: научно-технический журнал. – 2023. – Т. 28, № 6. — С. 762-772

Creators	Голишников А. А.; Дюжев Н. А.; Парамонов В. В.; Потапенко И. В.; Путря М. Г.; Сомов Н. М.; Чаплыгин Ю. А.
Imprint	2023
Collection	Общая коллекция
Subjects	Физика; Электронные и ионные явления. Физика плазмы; плазменное травление; анизотропное плазменное травление; кремний; глубокое плазменное травление; боковые структурные стенки; шероховатость боковых стенок (физика); сниженная шероховатость стенок; plasma etching; anisotropic plasma etching; silicon; deep plasma etching; side structural walls; side wall roughness (physics); reduced wall roughness
UDC	533.9
LBC	22.333
Document type	Article, report
File type	Other
Language	Russian
DOI	10.24151/1561-5405-2023-28-6-762-772
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://www.elibrary.ru/item.asp?id=55172133

1