Electronic Documents Search

Documents found: 1

1

Моделирование процессов распыления материала и имплантации галлия при воздействии фокусированного ионного пучка на кремниевую подложку // Известия высших учебных заведений. Электроника: научно-технический журнал. – 2023. – Т. 28, № 5. — С. 555-568

Creators	Подорожний О. В.; Румянцев А. В.; Волков Р. Л.; Боргардт Н. И.
Imprint	2023
Collection	Общая коллекция
Subjects	Физика; Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях; имплантация галлия; распыление облучаемого материала; моделирование процессов распыления; ионные пучки; фокусированные ионные пучки; кремниевые подложки; нанотехнологии; gallium implantation; spraying of irradiated material; simulation of sputtering processes; ion beams; focused ion beams; silicon substrates; nanotechnology
UDC	537.533/534
LBC	22.338
Document type	Article, report
File type	Other
Language	Russian
DOI	10.24151/1561-5405-2023-28-5-555-568
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://www.elibrary.ru/item.asp?id=54683298

1