Table | Card | RUSMARC | |
Allowed Actions: –
Action 'Read' will be available if you login or access site from another network
Action 'Download' will be available if you login or access site from another network
Group: Anonymous Network: Internet |
Annotation
Последнее время в технологии микросистемной техники пытаются перейти от травления при высоком вакууме к более высоким давлениям. Это связано с отказом от дорогостоящего высоковакуумного оборудования и упрощения процесса травления. С увеличением давления в камере ожидается эффект полировки пластин изотропным травлением. В данной работе представлены результаты плазмохимического травления кремния в низкотемпературной плазме в газовой смеси He/SF6/O2 при пониженном давлении (2500 Па). Полученные результаты справедливы только для приведенных расходов газов, так как изменение состава газовой смеси приведет к изменению парциального давления газов в реакторе и результаты могут измениться.
Document access rights
Network | User group | Action | ||||
---|---|---|---|---|---|---|
ILC SPbPU Local Network | All | |||||
Internet | Authorized users SPbPU | |||||
Internet | Anonymous |
Usage statistics
Access count: 372
Last 30 days: 0 Detailed usage statistics |