Details

Title: Разработка и создание прототипа универсальной установки плазмохимического травления различных материалов электронной техники: выпускная квалификационная работа магистра: 15.04.03 - Прикладная механика ; 15.04.03_04 - Технологии виртуального инжиниринга
Creators: Осипов Артём Арменакович
Scientific adviser: Кузин Алексей Константинович
Organization: Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт машиностроения, материалов и транспорта
Imprint: Санкт-Петербург, 2019
Collection: Выпускные квалификационные работы; Общая коллекция
Subjects: Промышленное оборудование; Плазмохимия; Травление металлов; моделирование физико-химических процессов; разработка концепции; создание оборудования; плазмохимическое травление
UDC: 544.55:621.794.4
Document type: Master graduation qualification work
File type: PDF
Language: Russian
Speciality code (FGOS): 15.04.03
Speciality group (FGOS): 150000 - Машиностроение
Links: http://doi.org/10.18720/SPBPU/3/2019/vr/vr18-271; http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr18-271-o.pdf; http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr18-271-r.pdf; http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr18-271-a.pdf
Rights: Свободный доступ из сети Интернет (чтение)

Allowed Actions: Read You need Flash Player to read document

Group: Anonymous

Network: Internet

Annotation

В результате проделанной работы была разработана и создана универсальная установка плазмохимического травления различных материалов электронной техники с возможностью независимой регулировки энергии ионов, поступающих к поверхности обрабатываемого материала, а также с возможностью регулировки температуры подложкодержателя в диапазоне от 20 до 400 ºС.

As a result of the work done, the universal installation of plasma-chemical etching of various materials of electronic technology was created. Implemented the possibility of independent adjustment of ions energies which are coming to the surface of the processed material, as well as the possibility of adjusting the temperature of the substrate holder in the range from 20 to 400 ºC.

Document access rights

Network User group Action
FL SPbPU Local Network All Read
-> Internet All Read

Table of Contents

  • Введение
  • ГЛАВА 1. ЛИТЕРАТУРНЙЫ ОБЗОР
  • 1.1. Анализ развития рынка микроэлектромеханических (МЭМС) систем
  • 1.2. Анализ современного состояния технологий проведения процессов глубокого высокоскоростного анизотропного плазмохимического травления кварца, карбида кремния и ниобата лития
  • 1.3. Анализ современного технологического оборудования для проведения высокопроизводительных процессов плазмохимического травления кварца, карбида кремния и ниобата лития
  • ГЛАВА 2. РАЗРАБОТКА И СОЗДАНИЕ УНИВЕРСАЛЬНОЙ УСТАНОВКИ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ РАЗЛИЧНЫХ МАТЕРИАЛОВ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ
  • 2.1. Разработка концепции реактора установки плазмохимического травления
  • 2.2. Математическое моделирование газовой динамики
  • 2.4. Математическое моделирование индуктивно-связанной плазмы
  • 2.4. Математическое моделирование температурных полей подложкодержателя
  • ГЛАВА 3. СОЗДАНИЕ И АПРОБАЦИЯ УСТАНОВКИ
  • Заключение
  • Список использованной литературы

Document usage statistics

stat Document access count: 17
Last 30 days: 6
Detailed usage statistics