Детальная информация
| Название | Разработка и создание прототипа универсальной установки плазмохимического травления различных материалов электронной техники: выпускная квалификационная работа магистра: 15.04.03 - Прикладная механика ; 15.04.03_04 - Технологии виртуального инжиниринга |
|---|---|
| Авторы | Осипов Артём Арменакович |
| Научный руководитель | Кузин Алексей Константинович |
| Организация | Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт машиностроения, материалов и транспорта |
| Выходные сведения | Санкт-Петербург, 2019 |
| Коллекция | Выпускные квалификационные работы; Общая коллекция |
| Тематика | Промышленное оборудование; Плазмохимия; Травление металлов; моделирование физико-химических процессов; разработка концепции; создание оборудования; плазмохимическое травление |
| УДК | 544.55:621.794.4 |
| Тип документа | Выпускная квалификационная работа магистра |
| Тип файла | |
| Язык | Русский |
| Уровень высшего образования | Магистратура |
| Код специальности ФГОС | 15.04.03 |
| Группа специальностей ФГОС | 150000 - Машиностроение |
| Ссылки | Отзыв руководителя; Рецензия; Отчет о проверке на объем и корректность внешних заимствований |
| DOI | 10.18720/SPBPU/3/2019/vr/vr18-271 |
| Права доступа | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Ключ записи | ru\spstu\vkr\1969 |
| Дата создания записи | 18.09.2019 |
Разрешенные действия
–
Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети
| Группа | Анонимные пользователи |
|---|---|
| Сеть | Интернет |
В результате проделанной работы была разработана и создана универсальная установка плазмохимического травления различных материалов электронной техники с возможностью независимой регулировки энергии ионов, поступающих к поверхности обрабатываемого материала, а также с возможностью регулировки температуры подложкодержателя в диапазоне от 20 до 400 ºС.
As a result of the work done, the universal installation of plasma-chemical etching of various materials of electronic technology was created. Implemented the possibility of independent adjustment of ions energies which are coming to the surface of the processed material, as well as the possibility of adjusting the temperature of the substrate holder in the range from 20 to 400 ºC.
| Место доступа | Группа пользователей | Действие |
|---|---|---|
| Локальная сеть ИБК СПбПУ | Все |
|
| Интернет | Авторизованные пользователи СПбПУ |
|
| Интернет | Анонимные пользователи |
|
Количество обращений: 42
За последние 30 дней: 0
