Details

Title Свойства эпитаксиальных нанослоев железо–иттриевого граната, выращенных методом молекулярно–лучевой эпитаксии: выпускная квалификационная работа бакалавра: 03.03.02 – Физика
Creators Плахотник Иван Андреевич
Scientific adviser Сутурин С. М.
Organization Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт физики, нанотехнологий и телекоммуникаций
Imprint Санкт-Петербург, 2018
Collection Выпускные квалификационные работы ; Общая коллекция
Subjects железо-иттриевый гранат ; лазерная молекулярно-лучевая эпитаксия ; дифракция отраженных быстрых электронов ; атомно-силовая микроскопия ; моноатомные слои
Document type Bachelor graduation qualification work
File type PDF
Language Russian
Level of education Bachelor
Speciality code (FGOS) 03.03.02
Speciality group (FGOS) 030000 - Физика и астрономия
Links Отзыв руководителя ; Рецензия
DOI 10.18720/SPBPU/2/v18-5651
Rights Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование)
Record key RU\SPSTU\edoc\58195
Record create date 11/28/2018

Allowed Actions

Action 'Read' will be available if you login or access site from another network

Action 'Download' will be available if you login or access site from another network

Group Anonymous
Network Internet

В данной работе описывается технология выращивания нанослоев железо-иттриевого граната (Y[3]Fe[5]O[12] или YIG) методом молекулярно-лучевой эпитаксии, а также особенности дифракционных картин и рельефа полученных наноструктур. Тонкие пленки железо-иттриевого граната благодаря своим магнитным свойствам и хорошей проводимости спиновых волн получили широкое применение в области спиновой наноэлектроники. Для успешного использования выращенные нанопленки должны иметь хорошее кристаллическое качество и малую толщину. Поиск подходящих условий роста пленки и анализ полученных результатов и есть основная цель этой работы. В качестве материала подложки использовался галлий-гадолиниевый гранат (Gd[3]Ga[5]O[12] или GGG), так как его кристаллическая решетка практически идентична решетке YIG. Рост проводился вдоль направления (111) при температуре 800-1000 градусов Цельсия и давлении кислорода 0.02 мбар. Толщина выращенной пленки 10 нм. Далее последовало исследование образца с помощью дифракции быстрых электронов и атомно-силового микроскопа. Интерпретация результатов сканирования позволила сделать вывод, что пленка обладает высокой гладкостью поверхности.

Network User group Action
ILC SPbPU Local Network All
Read Print Download
Internet Authorized users SPbPU
Read Print Download
Internet Anonymous

Access count: 34 
Last 30 days: 0

Detailed usage statistics