Буторин, Павел Сергеевич. Оптимизация Xe лазерно - плазменного источника EUV излучения для литографии. Новый метод подавления периферического поглощения [Электронный ресурс]: выпускная квалификационная работа магистра: 03.04.02 - Физика ; 03.04.02_05 - Физика плазмы = Optimization of Xe LPP source of EUV radiation for lithography. New method of suppressing peripheral absorption / П. С. Буторин; Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Институт физики, нанотехнологий и телекоммуникаций ; науч. рук. В. Ю. Сергеев. — Электрон. текстовые дан. (1 файл : 2,6 Мб). — Санкт-Петербург, 2019. — Загл. с титул. экрана. — Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование). — Adobe Acrobat Reader 7.0. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/vr19-3839.pdf>. — <URL:http://doi.org/10.18720/SPBPU/3/2019/vr/vr19-3839>. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr19-3839-o.pdf>. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr19-3839-r.pdf>. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr19-3839-a.pdf>.