Details
Title | Численное моделирование течения многокомпонентной реагирующей смеси газов в CCS реакторе при МОС-гидридном осаждении InAlN слоев: выпускная квалификационная работа бакалавра: 03.03.01 - Прикладные математика и физика ; 03.03.01_01 - Математическое и экспериментальное моделирование в механике сплошных сред |
---|---|
Creators | Логинова Ксения Евгеньевна |
Scientific adviser | Левченя Александр Михайлович |
Organization | Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт прикладной математики и механики |
Imprint | Санкт-Петербург, 2019 |
Collection | Выпускные квалификационные работы; Общая коллекция |
Subjects | численное моделирование; эпитаксия; МОГФЭ; модели роста; полупроводники III-V; numerical simulation; epitaxy; MOCVD; growth models; semiconducting III-V materials |
Document type | Bachelor graduation qualification work |
File type | |
Language | Russian |
Level of education | Bachelor |
Speciality code (FGOS) | 03.03.01 |
Speciality group (FGOS) | 030000 - Физика и астрономия |
Links | Отзыв руководителя; Отчет о проверке на объем и корректность внешних заимствований |
DOI | 10.18720/SPBPU/3/2019/vr/vr19-5632 |
Rights | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
Record key | ru\spstu\vkr\4192 |
Record create date | 11/1/2019 |
Allowed Actions
–
Action 'Read' will be available if you login or access site from another network
Action 'Download' will be available if you login or access site from another network
Group | Anonymous |
---|---|
Network | Internet |
В данной работе представлены результаты численного моделирования металлорганической газофазной эпитаксии в реакторе CCS с использованием трёх различных кинетических моделей поверхностной химии, описывающих нежелательное встраивание галлия в слои InAl(Ga)N. Был проведен анализ основных экспериментальных тенденций. При моделировании варьировались ростовые параметры для оценки влияния на парциальную скорость роста GaN. По результатам расчетов определены наиболее вероятные механизмы встраивания галлия в тонкие пленки и даны рекомендации к практическому использованию моделей роста.
This paper presents the results of numerical simulation of metalorganic vapour-phase epitaxy in Close Coupled Showerhead reactor using three different kinetic models of surface chemistry, describing the unintentional incorporation of gallium into InAl(Ga)N layers. An analysis of the main experimental trends was carried out. In the simulation, the growth conditions were varied to estimate the effect on the partial growth rate of GaN. Based on the calculation results, the most probable mechanisms for gallium incorporation into thin films were determined and discussed.
Network | User group | Action |
---|---|---|
ILC SPbPU Local Network | All |
|
Internet | Authorized users SPbPU |
|
Internet | Anonymous |
|
Access count: 27
Last 30 days: 0