Details
Title | Пространственно-временная динамика неравновесной электронно-дырочной плазмы в быстродействующих высоковольтных лавинных обострителях импульсов: выпускная квалификационная работа магистра: 16.04.01 - Техническая физика ; 16.04.01_01 - Физика и техника полупроводников |
---|---|
Creators | Иванов Михаил Сергеевич |
Scientific adviser | Гасумянц Виталий Эдуардович |
Organization | Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт физики, нанотехнологий и телекоммуникаций |
Imprint | Санкт-Петербург, 2019 |
Collection | Выпускные квалификационные работы ; Общая коллекция |
Subjects | Полупроводники ; Импульсная техника ; лавинный пробой ; субнаносекундная электроника ; импульсная электроника |
UDC | 537.311.322(043.3) ; 621.374(043.3) |
Document type | Master graduation qualification work |
File type | |
Language | Russian |
Level of education | Master |
Speciality code (FGOS) | 16.04.01 |
Speciality group (FGOS) | 160000 - Физико-технические науки и технологии |
Links | Отзыв руководителя ; Рецензия ; Отчет о проверке на объем и корректность внешних заимствований |
DOI | 10.18720/SPBPU/3/2019/vr/vr19-565 |
Rights | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
Record key | ru\spstu\vkr\1169 |
Record create date | 8/26/2019 |
Allowed Actions
–
Action 'Read' will be available if you login or access site from another network
Action 'Download' will be available if you login or access site from another network
Group | Anonymous |
---|---|
Network | Internet |
Длительность импульса с субнаносекундным фронтом нарастания, коммутируемого диодными лавинными обострителями, обычно составляет несколько наносекунд. Считается, что длительность импульса ограничена временем дрейфового рассасывания неравновесной электронно-дырочной плазмы (ЭДП) из базы диода. В работе показано, что при обострении длинных импульсов полного рассасывания ЭДП не происходит, а проводящее состояние поддерживается двойной лавинной инжекцией. Поэтому длительность импульса тока, протекающего через обостритель, ограничивается не дрейфовым рассасыванием плазмы, а изотермическим и тепловым шнурованием тока.
Pulse commutated by a silicon avalanche sharpener usually has a duration of about several nanoseconds. The conventional idea is that the factor limiting the pulse duration is sweeping of the electron-hole plasma out from the diode base. We show that when commutating a long pulse complete recovery of a silicon avalanche sharpener does not take place because conducting state is maintained by avalanche injection. It means that pulse duration is restricted by current filamentation.
Network | User group | Action |
---|---|---|
ILC SPbPU Local Network | All |
|
Internet | Authorized users SPbPU |
|
Internet | Anonymous |
|
Access count: 40
Last 30 days: 0