Details

Title: Пространственно-временная динамика неравновесной электронно-дырочной плазмы в быстродействующих высоковольтных лавинных обострителях импульсов: выпускная квалификационная работа магистра: 16.04.01 - Техническая физика ; 16.04.01_01 - Физика и техника полупроводников
Creators: Иванов Михаил Сергеевич
Scientific adviser: Гасумянц Виталий Эдуардович
Organization: Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт физики, нанотехнологий и телекоммуникаций
Imprint: Санкт-Петербург, 2019
Collection: Выпускные квалификационные работы; Общая коллекция
Subjects: Полупроводники; Импульсная техника; лавинный пробой; субнаносекундная электроника; импульсная электроника
UDC: 537.311.322(043.3); 621.374(043.3)
Document type: Master graduation qualification work
File type: PDF
Language: Russian
Speciality code (FGOS): 16.04.01
Speciality group (FGOS): 160000 - Физико-технические науки и технологии
Links: http://doi.org/10.18720/SPBPU/3/2019/vr/vr19-565; http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr19-565-o.pdf; http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr19-565-r.pdf; http://elib.spbstu.ru/dl/3/2019/vr/rev/vr19-565-a.pdf
Rights: Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование)

Allowed Actions: Read Download (1.6 Mb) You need Flash Player to read document

Group: Anonymous

Network: Internet

Annotation

Длительность импульса с субнаносекундным фронтом нарастания, коммутируемого диодными лавинными обострителями, обычно составляет несколько наносекунд. Считается, что длительность импульса ограничена временем дрейфового рассасывания неравновесной электронно-дырочной плазмы (ЭДП) из базы диода. В работе показано, что при обострении длинных импульсов полного рассасывания ЭДП не происходит, а проводящее состояние поддерживается двойной лавинной инжекцией. Поэтому длительность импульса тока, протекающего через обостритель, ограничивается не дрейфовым рассасыванием плазмы, а изотермическим и тепловым шнурованием тока.

Pulse commutated by a silicon avalanche sharpener usually has a duration of about several nanoseconds. The conventional idea is that the factor limiting the pulse duration is sweeping of the electron-hole plasma out from the diode base. We show that when commutating a long pulse complete recovery of a silicon avalanche sharpener does not take place because conducting state is maintained by avalanche injection. It means that pulse duration is restricted by current filamentation.

Document access rights

Network User group Action
FL SPbPU Local Network All Read Print Download
-> Internet All Read Print Download

Document usage statistics

stat Document access count: 31
Last 30 days: 4
Detailed usage statistics