Details

Title Исследование процесса формирования серебряного омического контакта на кремнии: выпускная квалификационная работа магистра: направление 22.04.01 «Материаловедение и технологии материалов» ; образовательная программа 22.04.01_01 «Материаловедение наноматериалов и компонентов электронной техники»
Creators Васильчук Дмитрий Дмитриевич
Scientific adviser Александров Сергей Евгеньевич
Organization Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт машиностроения, материалов и транспорта
Imprint Санкт-Петербург, 2025
Collection Выпускные квалификационные работы ; Общая коллекция
Subjects омический контакт ; никель-серебро ; кремний ; ohmic contact ; nickel-silver ; silicon
Document type Master graduation qualification work
File type PDF
Language Russian
Level of education Master
Speciality code (FGOS) 22.04.01
Speciality group (FGOS) 220000 - Технологии материалов
DOI 10.18720/SPBPU/3/2025/vr/vr25-1945
Rights Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Additionally New arrival
Record key ru\spstu\vkr\35162
Record create date 7/8/2025

Allowed Actions

Action 'Read' will be available if you login or access site from another network

Group Anonymous
Network Internet

Данная работа посвящена исследованию формирования омических контактов на кремнии. На основании аналитического обзора литературы в качестве металлизации о мического контакта была выбрана композиция н икель - серебро. Задачи, которые решались в ходе исследования: 1. И сследование механизма формирования о мических контактов. 2. Выбор наиболее подходящей композиции. 3. Определение технологических пара метров и исследование их влияния на итоговы е характеристики контакта. 4. Подбор опт имальных параметров формирования омического контакта и анализ полученных результатов. Работа выполнена на базе предприятия АО «Светлана - Электронприбор». В результате проведенных исследований, отработана технология формирования никель - серебряного омического контакта к эпитаксиальным структурам кремния. Разработан технологический маршрут изго товления силовых диодов на эпитаксиальных структурах кремния с применением никель - серебряного омического контакта. Изготовлена партия кристаллов диодов и проанализированы их отдельные характеристики, в частности прямая ветвь вольт - амперной характеристики .

This work is devoted to the study of the formation of ohmic contacts on silicon. Based on an analytical review of the literature, a nickel - silver composition was chosen as the metallization of the ohmic contact. Tasks that were solved during the study: 1. Study of the mechanism of formation of ohmic contacts. 2. Selection of the most suitable composition. 3. Determination of process parameters and study of their influence on the final characteristics of the contact. 4. Selection of optimal parameters for the formation of ohmic contact and analysis of the obtained results. The work was carried out on the basis of the enterprise JSC "Svetlana - Electronic Equipment," . As a result, the technology of formation of a nickel - silver ohmic contact on silicon was obtained and tested. Based on the conducted research, a technological route for the manufacture of power diodes was developed. A batch of diode crystals was manufact ured using this route and their individual characteristics were analyzed, in particular the forward branch of the volt - ampere characteristic.

Network User group Action
ILC SPbPU Local Network All
Read
Internet Authorized users SPbPU
Read
Internet Anonymous

Access count: 0 
Last 30 days: 0

Detailed usage statistics