Details
| Title | Влияние параметров ионной имплантации и отжига на проводимость и структурные свойства поликремния: выпускная квалификационная работа бакалавра: направление 16.03.01 «Техническая физика» ; образовательная программа 16.03.01_12 «Физика и нанотехнологии смарт-материалов» = Optimization the doping process of polysilicon gates in the technology for manufacturing photosensitive matrices |
|---|---|
| Creators | Рожков Сергей Александрович |
| Scientific adviser | Карасев Платон Александрович ; Клевцов А. И. |
| Organization | Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт электроники и телекоммуникаций |
| Imprint | Санкт-Петербург, 2026 |
| Collection | Выпускные квалификационные работы ; Общая коллекция |
| Subjects | поликристаллический кремний ; ионная имплантация ; термическая диффузия ; ПЗС-матрица ; polycrystalline silicon ; ion implantation ; thermal diffusion ; CCD matrix |
| Document type | Bachelor graduation qualification work |
| Language | Russian |
| Level of education | Bachelor |
| Speciality code (FGOS) | 16.03.01 |
| Speciality group (FGOS) | 160000 - Физико-технические науки и технологии |
| DOI | 10.18720/SPBPU/3/2026/vr/vr26-1685 |
| Rights | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Additionally | New arrival |
| Record key | ru\spstu\vkr\41729 |
| Record create date | 8/4/2026 |
Allowed Actions
–
Action 'Read' will be available if administrator prepare required files
| Group | Anonymous |
|---|---|
| Network | Internet |
Была использована прикладная программа TRIM, с помощью которой подобраны параметры ионной имплантации тестовых структур ионами фосфора, измерено поверхностное сопротивление легированных образцов, проанализирована поверхность поликремния. На основе полученных результатов подтверждено преимущество ионной имплантации над термической диффузией.
The TRIM software was used to select the parameters for ion implantation of the test structures with phosphorus ions, measure the surface resistance of the doped samples, and analyze the polysilicon surface. Based on the results obtained, the superiority of ion implantation over thermal diffusion was confirmed.
| Network | User group | Action |
|---|---|---|
| ILC SPbPU Local Network | All |
|
| Internet | Authorized users SPbPU |
|
| Internet | Anonymous |
|
