Details

Title Особенности получения приборных гетероструктур на основе материалов III - N: научный доклад: направление подготовки 03.06.01 «Физика и астрономия» ; направленность 03.06.01_07 «Физика полупроводников»
Creators Новиков Сергей Андреевич
Scientific adviser Рыков Сергей Александрович
Other creators Краснова Надежда Константиновна
Organization Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт электроники и телекоммуникаций
Imprint Санкт-Петербург, 2021
Collection Научные работы аспирантов/докторантов; Общая коллекция
Subjects Полупроводниковые структуры; Кристаллы — Рост; молекулярно-лучевая эпитаксия; эпитаксиальный рост; гетероструктуры; molecular beam epitaxy; epitaxial growth; heterostructures
UDC 537.311.322; 548.5
Document type Scientific report
File type Other
Language Russian
Level of education Graduate student
Speciality code (FGOS) 03.06.01
Speciality group (FGOS) 030000 - Физика и астрономия
Rights Текст не доступен в соответствии с распоряжением СПбПУ от 11.04.2018 № 141
Record key ru\spstu\vkr\15095
Record create date 10/15/2021

В докладе рассмотрены технологические особенности получения полупроводниковых гетероструктур методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Полученные данные экспериментально применены для эпитаксиального роста гетероструктур на основе GaN/InAlN с двумерным электронным газом.

The report examines the technological features of semiconductor heterostructures by molecular beam epitaxy. The obtained data are experimentally applied to the epitaxial growth of heterostructures based on GaN/InAlN with a two-dimensional electron gas.