Details

Title Низкочастотные шумы в СВЧ-приборах на широкозонных полупроводниках GaN и SiC: научный доклад: направление подготовки 03.06.01 «Физика и астрономия» ; направленность 03.06.01_03 «Радиофизика»
Creators Чернова Анастасия Сергеевна
Scientific adviser Сороцкий Владимир Александрович
Organization Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт электроники и телекоммуникаций
Imprint Санкт-Петербург, 2025
Collection Научные работы аспирантов/докторантов ; Общая коллекция
Subjects algan/gan hemt ; sic pin-диод ; низкочастотный шум ; избыточный шум ; электронное облучение ; измерение низкочастотного шума ; sic pin diode ; low frequency noise ; excessive noise ; electronic irradiation ; measurement of low frequency noise
Document type Scientific report
File type Other
Language Russian
Level of education Graduate student
Speciality code (FGOS) 03.06.01
Speciality group (FGOS) 030000 - Физика и астрономия
Rights Текст не доступен в соответствии с распоряжением СПбПУ от 11.04.2018 № 141
Additionally New arrival
Record key ru\spstu\vkr\39390
Record create date 10/15/2025

В работе рассматриваются низкочастотные шумы нелегированных AlGaN/GaN HEMT. Предложен микроволновый метод измерения низкочастотных шумов тока стока СВЧ-транзисторов. В AlGaN/GaN HEMT обнаружен интенсивный источник избыточного низкочастотного шума, природа которого объясняется статическим пробоем слоя AlGaN со стороны стока. Обсуждается поведение низкочастотных шумов нелегированных AlGaN/GaN HEMT и SiC pin-диодов при облучении потоком электронов (0.9 МэВ) в условиях последовательного накопления дозы.

The paper considers low-frequency noise of undoped AlGaN/GaN HEMT. A microwave method for measuring low-frequency noise of the drain current of microwave transistors is proposed. An intense source of excessive low-frequency noise was detected in AlGaN/GaN HEMT, the nature of which is explained by static breakdown of the AlGaN layer from the drain. The behavior of low-frequency noise of undoped AlGaN/GaN HEMT and SiC pin diodes under irradiation with an electron flux (0.9 MeV) with conditions of sequential dose accumulation is discussed.