Details

Title: Исследование реакционной способности структуры por-Si/Pd по отношению к парам этанола // Известия высших учебных заведений. Электроника: научно-технический журнал. – 2023. – С. 7-16
Creators: Силаков Г. О.; Лазоркин Е. Н.; Гаврилов С. А.; Воловликова О. В.; Железнякова А. В.; Дудин А. А.
Imprint: 2023
Collection: Общая коллекция
Subjects: Физика; Физика твердого тела. Кристаллография в целом; структура por-Si/Pd; пористый кремний; реакционные способности кремния; пары этанола; этанол; металл-стимулированное травление; газовые сенсоры; structures of por-Si/Pd; porous silicon; reactivity of silicon; ethanol vapor; ethanol; metal-stimulated etching; gas sensors
UDC: 539.2
LBC: 22.37
Document type: Article, report
File type: Other
Language: Russian
DOI: 10.24151/1561-5405-2023-28-1-7-16
Rights: Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Record key: RU\SPSTU\edoc\70866

Allowed Actions: View

Annotation

На сегодняшний день наиболее используемым типом сенсоров паров этанола являются резистивные газовые сенсоры на основе полупроводников. Применение в качестве чувствительной структуры пористого кремния, например por-Si/Pd, сформированной металл-стимулированным травлением, позволяет формировать чувствительный элемент и электронную обвязку в едином технологическом процессе. В работе показана возможность формирования резистивных газовых сенсоров методом металл-стимулированного химического травления кремния. Сформированы экспериментальные образцы на основе пористого кремния p- и n-типа проводимости. Представлено эмпирическое объяснение механизма чувствительности к этанолу исследуемых структур. Показана возможность формирования чувствительной структуры и электронной обвязки в едином технологическом процессе.

Today, the most widely used type of ethanol vapor sensors are resistive gas sensors based on semiconductors. The use of a porous silicon, e. g. por-Si/Pd, formed by metal-stimulated etching, as sensitive structure allows the formation of a sensitive element and an electronic binding in a single technological process. In this work, the possibility of forming resistive gas sensors by metal-stimulated chemical etching of silicon is shown. Experimental samples based on porous silicon of p and n type of conductivity have been formed. An empirical explanation of the mechanism of the studied structures’ sensitivity to ethanol is presented. The possibility of forming a sensitive structure and electronic binding in a single technological process is shown.

Usage statistics

stat Access count: 14
Last 30 days: 0
Detailed usage statistics