Electronic Documents Search

Documents found: 4

1

Исследование влияния плазменной обработки на свойства сформированных химическим осаждением из газовой фазы тонких пленок нитрида титана // Известия высших учебных заведений. Электроника: научно-технический журнал. – 2022. – Т. 27, № 6. — С. 715-722

Creators	Горностай-Польский В. С.; Шевяков В. И.
Imprint	2022
Collection	Общая коллекция
Subjects	Радиоэлектроника; Полупроводниковые приборы; нитрид титана; МДП-структуры; пленки нитрида титана; газовые фазы; химическое осаждение; свойства пленок нитрида титана; плазменная обработка; titanium nitride; TIR structures; titanium nitride films; gas phases; chemical deposition; properties of titanium nitride films; plasma treatment
UDC	621.382
LBC	32.852
Document type	Article, report
File type	Other
Language	Russian
DOI	10.24151/1561-5405-2022-27-6-715-722
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://elibrary.ru/item.asp?id=49993425

Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем: в 2 ч. Ч. 2. Элементы и маршруты изготовления кремниевых ИС и методы их математического моделирования. — 3-е изд.

Creators	Королёв М. А.; Крупкина Т. Ю.; Путря М. Г.; Шевяков В. И.
Imprint	Москва: Лаборатория знаний, 2015
Collection	ЭБС "Айбукс.ру/ibooks.ru"; Общая коллекция
Subjects	Микроэлектронные схемы интегральные — Математическое моделирование
UDC	621.3.049.77:519.876.5
Document type	Tutorial
File type	Other
Language	Russian
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://ibooks.ru/reading.php?short=1&productid=350103

Металлизация ультрабольших интегральных схем: учебное пособие. — 3-е изд.

Creators	Громов Д. Г.; Мочалов А. И.; Сулимин А. Д.; Шевяков В. И.
Imprint	Москва: Лаборатория знаний, 2015
Collection	ЭБС "Айбукс.ру/ibooks.ru"; Общая коллекция
Subjects	Микроэлектронные схемы интегральные
UDC	621.3.049.77(075.8)
Document type	Tutorial
File type	Other
Language	Russian
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://ibooks.ru/reading.php?short=1&productid=350104

Многоуровневая металлизация высокотемпературных кремниевых ИС на основе вольфрама. Физика и технология: обзор // Известия высших учебных заведений. Электроника: научно-технический журнал. – 2023. – Т. 28, № 2. — С. 164-179

Creators	Тимаков А. В.; Горностай-Польский В. С.; Шевяков В. И.
Imprint	2023
Collection	Общая коллекция
Subjects	Радиоэлектроника; Полупроводниковые приборы; обзоры; интегральные схемы; кремниевые ИС; высокотемпературные ИС; многоуровневая металлизация; вольфрам; высококачественные межсоединения (радиоэлектрника); reviews; integrated circuits; silicon ICS; high temperature OF; multilevel metallization; tungsten; high-quality interconnects (radio electronics)
UDC	621.382
LBC	32.852
Document type	Article, report
File type	Other
Language	Russian
DOI	10.24151/1561-5405-2023-28-2-164-179
Rights	Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)

https://elibrary.ru/item.asp?id=50767474

1