Последнее время в технологии микросистемной техники пытаются перейти от травления при высоком вакууме к более высоким давлениям. Это связано с отказом от дорогостоящего высоковакуумного оборудования и упрощения процесса травления. С увеличением давления в камере ожидается эффект полировки пластин изотропным травлением. В данной работе представлены результаты плазмохимического травления кремния в низкотемпературной плазме в газовой смеси He/SF6/O2 при пониженном давлении (2500 Па). Полученные результаты справедливы только для приведенных расходов газов, так как изменение состава газовой смеси приведет к изменению парциального давления газов в реакторе и результаты могут измениться.