Table | Card | RUSMARC | |
Allowed Actions: View |
Annotation
Нестехиометрический нитрид кремния SiN[x], обогащённый кремнием, является перспективным материалом для разработки энергонезависимой мемристорной памяти. В работе изучаются оптические свойства SiN[x], синтезированного в реакторе пониженного давления при 800 С при разных соотношения дихлорсилана (SiH[2]Cl[2]) к аммиаку (NH[3]). Установлено, что для плёнок, синтезированных при отношении SiH[2]Cl[2]/NH[3]=1/1, 1/2 и 1/3, соответствующие значения ширины запрещённой зоны составляют 3.83, 4.17 и 4.40 eV. При этом соответствующие значения параметра x, найденные по рассчитанной из первых принципов зависимости значения ширины запрещённой зоны SiN]x[ от x, составляют 1.26, 1.30 и 1.32. Таким образом, увеличивая отношение SiH[2]Cl[2]/NH[3], можно создавать нестехиометрические плёнки SiN[x] с контролируемой степенью обогащения кремнием при высокой однородности химического состава и толщины.
Included in
Usage statistics
Access count: 16
Last 30 days: 3 Detailed usage statistics |